这种DNA加工纳米图形的方法叫做DNA投影纳米印刷术，也可以叫做DNA模板印刷术。
这种方法可以利用DNA为模板来定义基片图案。
原理是把DNA在基片上排列整齐，再在上面沉积一层金属膜。
&分子起纳米蜡纸的作用，由于金属膜以一定角度沉积，DNA分子的投影便定义了基片上的图案。
接下来再使用等离子体刻蚀机对图案表面进行刻蚀，便可以在基片上便可得到纳米尺寸的沟槽。
这样就正好绕开了光刻步骤！
光刻机在芯片生产中很重要，但是它的作用其实很简单。
光刻机在芯片生产中的作用就是通过光源与基片上面的光刻胶发生反应，使得照射部分的光刻胶变质，易于腐蚀，从而在光刻胶上面“画”出电路图案。
接下来便可以把变质部分的光刻胶腐蚀掉，然后再对晶圆本身进行腐蚀，从而形成半导体器件及其电路。
也就是说光刻机起到的只是一个定位的作用，真正的电路形成还是得看刻蚀！
而现在这个定位的作用可以由DNA模板来完成！
如果按照这种技术思路走下去，那未来的碳基芯片制备就是走化生的方式，完全是从各种溶液里面泡出来。
内容未完，下一页继续阅读